为贯彻落实国家和上海市中长期科技发展规划纲要，以及我市《关于进一步推进科技创新，加快高新技术产业化的若干意见》，推动上海新型显示领域形成持续创新能力，加快经济增长方式的转变，上海市科学技术委员会特发布本指南。
一、研究目标、内容及期限
专题一、激光显示产业化关键技术研究
研究目标：针对激光显示产业发展需求,开发功率在50MW以上，波长为440～450nm的蓝光半导体激光器件，并实现产业化；完成尺寸在0.2英寸以下，解析度为800×600和1080×720的单片式LCOS微型显示芯片的设计与封装，为微型投影机产业化提供配套支持；开发解析度为1920×1280以上的高清晰度LCOS微型显示芯片，形成为高清晰度激光电视产业化和特殊显示提供关键部件的能力；建立微型激光投影模块及其应用产品生产线；制定相关技术和产品标准。
研究内容：
一、蓝光激光器关键技术：蓝光半导体激光光源外延生长工艺，蓝激光器件封装技术；
二、微型激光投影模块及应用产品关键技术：微型激光光学引擎设计制造技术，提高激光光源利用效率和消除散斑的技术，微型激光投影模块及其应用产品的批量生产技术；
三、LCOS芯片关键技术：LCOS芯片集成电路设计技术、液晶设计与封装技术，包括为单片式微型显示器配套的小尺寸LCOS微型显示芯片，单片式和三片式背投显示高清显示LCOS显示芯片，医学影像等超高清特殊LCOS显示芯片。
研究期限：2012年12月31日前完成。
专题二、光电子核心装备－AMOLED投影光刻机研制
研究目标：研制2.5代AMOLED投影光刻机，通过光刻工艺验证，并正式交付用户使用，为国内OLED生产线建设提供核心装备和配套技术服务；完成4.5代光刻机详细设计方案，试制配套的大行程高精度扫描工件台，编制光刻工艺技术文件。
研究内容：
一、基板尺寸为370mm*470mm的全自动扫描光刻机设计、制造和光刻工艺：超大视场、高分辨率投影物镜的设计、加工技术与装校工艺；大行程高精度扫描工件台研制；全自动扫描光刻机系统软件开发及其验证平台开发；光刻机对位精度、套刻精度、分辨率、曝光均匀性、再现性、稳定性研究；基于机器视觉的离轴对准系统和空间像传感器设计；全自动大尺寸掩模版传输及存储单元设计；高精度大腔体温度控制单元研制等内容。
二、基板尺寸为730mm*920mm的光刻机方案设计研究及配套工件台设计与制造。
研究期限：2012年6月30日前完成。
二、申请条件
1、项目申报需以企业为主体，鼓励产学研合作承担研究开发任务，牵头单位应具备较强的技术实力和较好的前期研究基础，合作开发需附上合作协议。
２、申请专题一申报单位自筹资金不得低于70％，申请专题二申报单位自筹资金不得低于50％。
三、申请方式
网上填报备注：
2）点击《科研计划项目课题可行性方案》受理并进入申报页面：
- 【初次填写】转入申报指南页面，点击"专题名称"中相应的指南专题后开始申报项目（需要设置"项目名称"、"依托单位"、"登录密码"）；
- 【继续填写】输入已申报的项目名称、依托单位、密码后继续该项目的填报。
3）有关操作可参阅在线帮助。 （3）
2、课题责任人和主要科研人员，同期参与承担国家和地方科研项目数不得超过三项，已申报今年市科委其它类别项目者应主动予以申明。
3、本课题申请起始时间为2010年3月25日,截止日期为2010年4月12日。课题申报时需提交书面可行性方案一式4份，并通过"上海科技"网站递交电子文本一份。书面可行性方案集中受理时间为2010年4月1日至4月12日，每个工作日上午9:00-下午4:30.
四、联系方式
申请材料送达：上海市钦州路100号2号楼319,320室（邮编200235），上海市火炬高技术产业开发中心高新技术领域项目管理部。
联系人：刘华珍、谢静娴
联系电话：54065169、54065173
上海市科学技术委员会
二〇一〇年三月二十五日
